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離子濺射儀（噴金儀）產(chǎn)品簡(jiǎn)介：1、人性化設(shè)計(jì)，儀器操作簡(jiǎn)單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實(shí)驗(yàn)室、科研院所等。3、鍍膜均勻細(xì)密，適用于多種靶材。4、樣...

離子濺射儀的離子流的大小通過(guò)控制真空壓力實(shí)現(xiàn)，真空度越低，I越大，濺射速度越快，原子結(jié)晶晶粒越粗，電子轟擊樣品（陽(yáng)極）產(chǎn)生的熱量越高；真空度越高,I越小，濺射速...

小型離子濺射儀(Small size ion sputtering instrument)是一種物理氣相沉積技術(shù)，可用于制備薄膜和表面處理。它采用高能離子轟擊靶...

全自動(dòng)離子濺射儀是一種功能強(qiáng)大的電子設(shè)備，經(jīng)常用于表面分析和薄膜制備。它可以利用離子束轟擊樣品表面，然后通過(guò)檢測(cè)生成的離子進(jìn)行分析。

實(shí)驗(yàn)室噴金儀1、人性化設(shè)計(jì)，儀器操作簡(jiǎn)單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實(shí)驗(yàn)室、科研院所等。3、鍍膜均勻細(xì)密，適用于多種靶材。4、樣品臺(tái)可以快速調(diào)節(jié)，...

離子濺射儀（噴金儀）產(chǎn)品簡(jiǎn)介：全自動(dòng)離子濺射儀1、人性化設(shè)計(jì)，儀器操作簡(jiǎn)單，一鍵鍍膜。2、儀器小巧，不占空間，適用于實(shí)驗(yàn)室、科研院所等。3、鍍膜均勻細(xì)密，適用于...